بررسی تاثیر محلول نانوسیل D2 بر خشونت سطحی رزین¬های آکریلی گرما سخت بیس دنچر در شرایط آزمایشگاهی

Abstract

مقدمه و هدف: ضد¬عفوني كننده¬هاي شيميايي بايد حداقل اثرات جانبي را بر روي سطح بیس دنچر داشته باشند تا تجمع پلاك را كاهش دهند. اين مطالعه، اثر نانوسیل D2 را بر خشونت سطحی رزین¬های آکریلی گرما سخت بیس دنچر در شرایط آزمایشگاهی بررسی می¬کند. روش كار: تعداد 44 نمونه رزین آکریلی اکروپارس به قطرmm 17 و ارتفاع mm 6 ساخته شد و به دو گروه 22 تایی شاهد و 22 تایی مورد به صورت گزینش تصادفی تقسیم شدند. سپس خشونت سطحی اولیه¬ی نمونه¬ها بر حسب Ra (خشونت سطحي ميانگين) و Rz (ميانگين عمق خشونت سطحي) توسط دستگاه پروفایلومتر PS1 مورد ارزیابی قرار گرفت. در ادامه، نمونه¬های گروه کنترل در آب شهری و نمونه¬های گروه مورد در محلول ضد عفونی کننده نانوسیل D2(کیمیافام، ایران)، قرار گرفته و سپس نمونه ها خارج شده و به مدت 16 ساعت داخل آب مقطر قرار گرفتند. هر روز ماده ضد عفونی کننده تعویض شده و اینکار به مدت 180 روز طبق روال فوق انجام شد. پس از 180 روز خشونت سطحی نمونه¬ها مجددا اندازه¬گیری ¬شد. داده¬های به دست آمده از مطالعه با استفاده از نرم افزار آماری SPSS.17 مورد بررسی آماری قرارگرفت. نتايج: هم در گروه دهانشویه و هم در گروه آب شهری، بین میانگین Ra قبل و بعد از قرارگیری در محلول تفاوت معنی دار آماری وجود ندارد (05/0 (P-value>اما بعد از قرارگیری در محلول بین میانگین Ra در دو گروه تفاوت معنی دار آماری وجود داشت و میانگین Ra در گروه دهانشویه بیشتر از میانگین آن در گروه آب شهری بود (05/0 (P-value< در گروه دهانشویه بین میانگین Rz قبل و بعد از قرارگیری در محلول، تفاوت معنی دار آماری وجود داشت (05/0 (P-value< اما در گروه آب شهری بین میانگین Rz قبل و بعد از قرارگیری در محلول تفاوت معنی دار آماری وجود نداشت(05/0 (P-value>.